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銅柱凸點(diǎn)測(cè)試全解析:推拉力測(cè)試儀在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用與優(yōu)化

 更新時(shí)間:2025-06-06 點(diǎn)擊量:717

隨著物聯(lián)網(wǎng)、人工智能和5G通信等新興技術(shù)的快速發(fā)展,電子元器件正朝著更輕、更小、更高性能的方向演進(jìn)。在這一背景下,銅柱凸點(diǎn)(Copper Pillar Bump, CPB)技術(shù)作為先進(jìn)封裝互連方案,因其獨(dú)te的結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的性能而備受關(guān)注。

本文科準(zhǔn)測(cè)控小編將介紹銅柱凸點(diǎn)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)、制備工藝,并重點(diǎn)探討了使用Alpha W260推拉力測(cè)試儀等設(shè)備進(jìn)行可靠性測(cè)試的原理、標(biāo)準(zhǔn)及流程,為行業(yè)同仁提供全面的技術(shù)參考和應(yīng)用指導(dǎo)。

 

一、銅柱凸點(diǎn)技術(shù)原理

1、基本結(jié)構(gòu)與工作原理

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銅柱凸點(diǎn)由銅柱和焊帽兩部分組成,通過(guò)電鍍工藝制備而成。其工作原理是通過(guò)銅柱提供機(jī)械支撐和電/熱傳導(dǎo)路徑,焊帽則在回流焊過(guò)程中熔化形成冶金連接。與傳統(tǒng)C4焊球相比,CPB具有以下優(yōu)勢(shì):

a、更高的互連密度:可實(shí)現(xiàn)20-150μm的細(xì)節(jié)距

b、優(yōu)異的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能:銅的熱導(dǎo)率(401W/m·K)遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)焊料

c、更強(qiáng)的機(jī)械可靠性:銅的屈服強(qiáng)度顯著高于焊料合金

d、更好的抗電遷移性能:電流塞積區(qū)域遠(yuǎn)離焊料帽

 

2、與傳統(tǒng)C4凸點(diǎn)的對(duì)比

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二、測(cè)試相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

銅柱凸點(diǎn)的可靠性評(píng)估主要參考以下標(biāo)準(zhǔn):

JESD22-A104:溫度循環(huán)測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)

JESD22-A101:穩(wěn)態(tài)溫度濕度偏壓測(cè)試

JESD22-B105:焊球剪切測(cè)試方法

IPC-9701:表面貼裝焊點(diǎn)可靠性測(cè)試

MIL-STD-883:微電子器件測(cè)試方法標(biāo)準(zhǔn)

 

三、測(cè)試儀器和工具

1、Alpha W260推拉力測(cè)試儀

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A、設(shè)備介紹

Alpha-W260自動(dòng)推拉力測(cè)試機(jī)用于為微電子引線鍵合后引線焊接強(qiáng)度測(cè)試、焊點(diǎn)與基板表面粘接力測(cè)試及其失效分析領(lǐng)域的專用動(dòng)態(tài)測(cè)試儀器,常見(jiàn)的測(cè)試有晶片推力、金球推力、金線拉力等,采用高速力值采集系統(tǒng)。根據(jù)測(cè)試需要更換相對(duì)應(yīng)的測(cè)試模組,系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別模組,并自由切換量程。

B、推刀

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C、常用工裝夾具

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2、萬(wàn)能材料試驗(yàn)機(jī)搭配定制工裝(用于拉脫試驗(yàn))

 

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四、測(cè)試流程

1、剪切測(cè)試流程

剪切測(cè)試用于評(píng)估銅柱凸點(diǎn)的抗剪切能力,模擬封裝過(guò)程中或服役期間可能受到的機(jī)械應(yīng)力。

步驟1、測(cè)試前準(zhǔn)備

A、樣品制備

采用電鍍法制備銅柱凸點(diǎn)樣品,確保凸點(diǎn)高度、直徑和焊帽厚度符合設(shè)計(jì)要求。

使用光學(xué)顯微鏡或激光共聚焦顯微鏡測(cè)量凸點(diǎn)高度(H),并記錄初始形貌。

若需熱老化或電遷移預(yù)處理,按相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)(如JESD22-A104JESD22-A101)進(jìn)行。

B、設(shè)備校準(zhǔn)

檢查Alpha W260推拉力測(cè)試儀的傳感器精度,確保力值誤差≤±1%

安裝合適的剪切夾具,調(diào)整測(cè)試平臺(tái)水平度,避免偏載影響測(cè)試結(jié)果。

步驟2、測(cè)試參數(shù)設(shè)置

剪切速度:50200 μm/s(推薦100 μm/s,確保準(zhǔn)靜態(tài)加載)。

剪切高度:設(shè)定為凸點(diǎn)高度的 2025%(如凸點(diǎn)高度80 μm,則剪切高度1620 μm)。

剪切方向:平行于芯片表面,確保剪切刀口與凸點(diǎn)接觸面垂直。

終止條件:剪切力下降至峰值的80%時(shí)自動(dòng)停止,或位移達(dá)到設(shè)定閾值(如50 μm)。

步驟3、測(cè)試步驟

將樣品固定在測(cè)試平臺(tái)上,確保芯片與基板無(wú)松動(dòng)。

調(diào)整剪切刀口位置,使其對(duì)準(zhǔn)凸點(diǎn)側(cè)壁(非焊帽部分)。

啟動(dòng)測(cè)試程序,記錄 剪切力-位移曲線,并保存最大剪切力(F<sub>max</sub>)。

重復(fù)測(cè)試至少 20個(gè)凸點(diǎn),確保數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)有效性。

步驟四、數(shù)據(jù)分析

剪切強(qiáng)度計(jì)算:

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失效模式分析(SEM/EDS觀察):

界面斷裂(UBM/Cu柱界面失效)

焊料斷裂(焊帽處斷裂)

混合斷裂(部分界面+部分焊料斷裂)

2、拉脫測(cè)試流程

拉脫測(cè)試用于評(píng)估銅柱凸點(diǎn)的 垂直結(jié)合強(qiáng)度,模擬封裝剝離或熱應(yīng)力導(dǎo)致的界面分層風(fēng)險(xiǎn)。

步驟1測(cè)試前準(zhǔn)備

步驟2樣品固定

使用專用真空吸盤或膠粘夾具固定芯片,確保受力方向垂直于基板。

若測(cè)試回流焊后樣品,需確保焊點(diǎn)wan全凝固,避免高溫軟化影響數(shù)據(jù)。

步驟3拉脫夾具選擇

采用平頭圓柱夾具(直徑略大于凸點(diǎn)),確保均勻施力。

對(duì)于微小凸點(diǎn)(<50 μm),可使用環(huán)氧樹(shù)脂包埋法增強(qiáng)固定。

步驟4測(cè)試參數(shù)設(shè)置

加載速度:10–50 μm/s(避免動(dòng)態(tài)沖擊效應(yīng))。

終止條件:力值下降至峰值的70%,或位移超過(guò)凸點(diǎn)高度2倍。

步驟5測(cè)試步驟

調(diào)整拉脫夾具,使其與凸點(diǎn)頂部接觸(輕微預(yù)壓,避免初始間隙)。

啟動(dòng)測(cè)試,記錄 拉力-位移曲線,保存最大拉脫力(F<sub>pull</sub>)。

重復(fù)測(cè)試 15–20個(gè)凸點(diǎn),排除異常值(如夾具滑動(dòng)導(dǎo)致的失效)。

步驟6數(shù)據(jù)分析

界面結(jié)合強(qiáng)度:

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失效模式分類:

IMC層斷裂(Cu<sub>6</sub>Sn<sub>5</sub>/Cu界面脆性斷裂)

焊料內(nèi)聚失效(焊帽內(nèi)部斷裂)

UBM剝離(金屬化層與芯片分層)

以上就是小編介紹的有關(guān)于先進(jìn)封裝銅柱凸點(diǎn)互連技術(shù)及可靠性測(cè)試相關(guān)內(nèi)容了,希望可以給大家?guī)?lái)幫助!如果您還想了解更多BGA封裝料件焊點(diǎn)的可靠性測(cè)試方法、視頻和操作步驟,推拉力測(cè)試機(jī)怎么使用視頻和圖解,使用步驟及注意事項(xiàng)、作業(yè)指導(dǎo)書,原理、怎么校準(zhǔn)和使用方法視頻,推拉力測(cè)試儀操作規(guī)范、使用方法和測(cè)試視頻 ,焊接強(qiáng)度測(cè)試儀使用方法和鍵合拉力測(cè)試儀等問(wèn)題,歡迎您關(guān)注我們,也可以給我們私信和留言,【科準(zhǔn)測(cè)控】小編將持續(xù)為大家分享推拉力測(cè)試機(jī)在鋰電池電阻、晶圓、硅晶片、IC半導(dǎo)體、BGA元件焊點(diǎn)、ALMP封裝、微電子封裝、LED封裝、TO封裝等領(lǐng)域應(yīng)用中可能遇到的問(wèn)題及解決方案。

 

 

 


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